摘要(Abstract)：

采用磁控溅射法在单晶Si(100))基片上制备了一系列FePt薄膜,研究了膜厚、退火温度和时间、Fe/Pt原子比对薄膜结构和磁性能的影响。研究表明,薄膜的有序度与膜厚有着密切的关系,厚度越厚,薄膜的有序化程度越高,矫顽力越高。退火温度的升高和退火时间的延长均可以使薄膜的矫顽力增高。富Fe的薄膜具有相对较高的有序度,Fe/Pt原子比为55:45时,有序化程度最高,矫顽力最高,平行方向的矫顽力为14.2kOe。Fe/Pt原子比为50:50的薄膜,(001)垂直取向在膜厚为20 nm时获得。

关键词(KeyWords)： FePt薄膜;磁记录;有序度;膜厚;退火;Fe/Pt原子比;结构;矫顽力

文章下载：磁控溅射法制备的FePt薄膜的结构与性能.pdf